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微波芯片光刻胶 Micro led光刻胶 成份稳定

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  •  微波芯片光刻胶 Micro led光刻胶 成份稳定
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产品单价200.00
最小起订1千克
所在地区广东深圳
发布日期2018-07-09
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安智光刻胶微波芯片光刻胶Micro led光刻胶
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" 微波芯片光刻胶 Micro led光刻胶 成份稳定"详细描述:

产品名称: 微波芯片光刻胶 Micro led光刻胶 成份稳定

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1.生产 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ系列 AZ6112 AZ6130  高感光度 高产出率 很宽的膜厚范围 适合干法刻蚀工艺 成分稳定 应用广

2.生产 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ系列 AZ3100  G线 I线通用 高附着性 适合干法湿法刻蚀工艺 成分稳定 应用广

3.生产 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ系列 AZ1500 高感光度 高附着性 适合湿法刻蚀工艺 成分稳定 应用广

4.圆片级封装(WLP)用 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ系列 AZ50XT AZ10XT 高分辨率 高纵宽比 高附着性 电镀工艺高耐受性 凸点UBM工艺 成分稳定 应用广

5.圆形化衬底(PSS)用 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ系列 AZ GXR-601 G线I线通用 高感光度,高产出率 适合干法刻蚀工艺 成分稳定 应用广

6.适合蒸镀正性 负性光刻胶 安智AZ系列 AZ5200 AZ5214E 高分辨率 很宽的膜厚范围 用于正/负反转 lift-off工艺 稳定性好

7.生产 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ-P 高对比度 高感光率 高附着性 电镀工艺耐受性好 成分稳定 可靠性高

8.显影液 无需表面活性剂 安智 AZ400K AZ300MF 厚膜 正性 光刻胶 各种显影工艺 puddle Dip 效果好 显影高 清晰度高

9.LED行业 CSP芯片级封装 正性 负性 光刻胶 lift-off工艺 高膜厚 耐高温 蒸镀 成分稳定 应用广

10.适用 LED行业 CSP芯片级封装 正性 负性 光刻胶 干法刻蚀工艺 高膜厚 耐高温 蒸镀 成分稳定 应用广

11.生产应用 LED行业 高压芯片(HV)倒装芯片(FC)正性 负性 光刻胶 干法刻蚀工艺 高膜厚 耐高温 蒸镀 成分稳定 专业厂家

12.生产应用 LED行业 高压芯片(HV)倒装芯片(FC)正性 负性 光刻胶 lift-off工艺 高膜厚 耐高温 蒸镀 成分稳定 专业厂家

13.生产应用 LED行业 高压芯片(HV)倒装芯片(FC)正性 负性 光刻胶 lift-off工艺 高膜厚 耐高温 蒸镀 成分稳定 专业厂家

14.生产应用 LED行业 圆片级封装(WLP) 正性 负性 光刻胶 凸点UBM工艺 高膜厚 耐高温 电镀工艺耐受性 成分稳定 专业厂家

15.生产应用 LED行业 Metal mesh工艺,金属网格触摸屏 柔性 光刻胶 高粘附力 耐刻蚀 铜蚀刻工艺 成分稳定 专业厂家

16.盖板行业 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃  BM光阻 快干 OD值高 喷涂油墨 耐酸碱 曝光能量低 分辨率高 成分稳定 效果好

17.盖板行业 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃  感光油墨 快干 OD值高 喷涂油墨 耐酸碱 曝光曝光能量低 分辨率高 成分稳定 效果好

18.盖板行业 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃  UV油墨 快干 OD值高 喷涂油墨 耐酸碱 曝光曝光能量低 分辨率高 成分稳定 效果好

19.盖板行业 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃  透明光阻 高分辨率 透过率高 喷涂油墨 耐酸碱 曝光能量低 分辨率高 成分稳定 效果好

20.盖板行业 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃  纹理油墨 高分辨率 透过率高 喷涂油墨 耐酸碱 曝光能量低 分辨率高 成分稳定 效果好

21.盖板行业 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃  BM光阻 快干 OD值高 喷涂油墨 耐酸碱 曝光曝光能量低 分辨率高 成分稳定 效果好

22.盖板行业 3D曲面玻璃 喷涂 防爆油墨 液体防爆胶 水性防爆膜 黑色 透明色 粘度好 强度高 产能高

温馨提示:【 微波芯片光刻胶 Micro led光刻胶 成份稳定】产品信息是由【深圳市启耀光电有限公司】提供的。

深圳市启耀光电有限公司的主营产品有:光刻胶|感光油墨|喷涂防爆胶|水性防爆膜|UV油墨|耐酸碱油墨|抗氢氟酸光刻胶|透明光阻,我们公司位于:龙华新区白石龙。想了解更多关于【 微波芯片光刻胶 Micro led光刻胶 成份稳定】的相关系信息,请查看企业的最新动态

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